精密顯微操作的利器：NARISHIGE成茂EG-45拋光機技術(shù)解析

更新時間：2025-09-20

點擊次數(shù)：361

在微觀世界里，精度決定成敗。一款來自日本的精密拋光設(shè)備，正悄然改變著顯微操作的精細度。

在細胞生物學(xué)、神經(jīng)科學(xué)和材料科學(xué)等領(lǐng)域，顯微操作工具的精度至關(guān)重要。無論是玻璃微電極、顯微注射針還是細胞捕獲針，其的狀態(tài)直接影響實驗結(jié)果的可靠性與可重復(fù)性。

日本NARISHIGE（成茂）公司生產(chǎn)的EG-45拋光機（也稱為磨針儀），正是為滿足這種高精度需求而設(shè)計的專業(yè)設(shè)備。

01 工作原理與設(shè)計理念

EG-45拋光機通過精密機械傳動和特殊電機設(shè)計，實現(xiàn)了對顯微工具的精細拋光。設(shè)備核心是一個提供光學(xué)平面磨盤的系統(tǒng)。

在顯微鏡下，移液管（玻璃微電極、顯微注射針等）與磨盤接觸，通過加入適量研磨漿，以一定轉(zhuǎn)速將目標物制作成鋒利的前端，也可處理成不同斜切角度。

其特殊電機設(shè)計極大減少了研磨平面的不規(guī)則運動，這是實現(xiàn)高精度拋光的關(guān)鍵。這種設(shè)計使得EG-45成為研磨微量吸管的理想選擇。

EG-45拋光機集多項技術(shù)特性于一身，確保了其的拋光性能：

設(shè)備配備了一個易于操作的粗、細運動同軸機械手，用于微吸管的垂直操作，能夠?qū)崿F(xiàn)非常精確的研磨。

量角器安裝在吸管支架固定段上，便于設(shè)置所需的研磨角度，并連接適配器用于垂直研磨。

EG-45的電機轉(zhuǎn)速范圍約為 150rpm至2，100rpm。這一寬范圍轉(zhuǎn)速設(shè)計使得設(shè)備既能進行需要極精細拋光的低速旋轉(zhuǎn)，也能實現(xiàn)快速拋光的高速旋轉(zhuǎn)。

設(shè)備安裝了充水和排水機構(gòu)，有效防止堵塞或刨花堆積，使整體設(shè)備更易于使用和維護。

EG-45拋光機的主要技術(shù)參數(shù)：

EG-45拋光機在多個科學(xué)領(lǐng)域和研究場景中發(fā)揮著關(guān)鍵作用：

在細胞生物學(xué)實驗中，經(jīng)過EG-45處理的顯微注射針易于刺入細胞且對細胞破壞小。這對于細胞顯微注射、基因轉(zhuǎn)染等操作至關(guān)重要，能夠顯著提高實驗成功率和細胞存活率。

在神經(jīng)科學(xué)領(lǐng)域，玻璃微電極的狀態(tài)直接影響記錄質(zhì)量。EG-45拋光后的微電極能減小電阻，并減少切面的毛刺，從而獲得更準確和穩(wěn)定的電生理記錄。

對于顆粒/細胞捕獲針和顯微切割針，EG-45能夠為其制作出鋒利的前端，也可處理成不同斜切角度，以滿足各種特殊實驗需求。

在使用EG-45時，需要在磨床附近使用顯微鏡或數(shù)碼相機進行觀察。重要的是確保顯微鏡或相機的位置能避免水花濺射，以免造成設(shè)備損壞。

設(shè)備使用的玻璃毛細管外徑范圍應(yīng)在1.0mm至1.5mm之間，這是保證優(yōu)良拋光效果的重要參數(shù)。

EG-45設(shè)計了注水和排水機制，以減少堵塞或切削碎屑的堆積，使整個裝置能較長時間穩(wěn)定運行。

定期使用配套的砂輪清潔棒對設(shè)備進行維護，能夠保持優(yōu)良工作狀態(tài)。

EG-45拋光機相比傳統(tǒng)拋光設(shè)備具有多項顯著優(yōu)勢：

NARISHIGE通過特殊電機設(shè)計最小化了拋光表面的晃動，使得精細拋光成為可能。設(shè)備在所有轉(zhuǎn)速下都能提供穩(wěn)定的性能——從低精度到高精度，再到快速研磨。

粗細運動同軸操作器的設(shè)計使操作更加簡便直觀，研究人員能夠快速掌握使用技巧。

垂直研磨適配器的加入擴展了設(shè)備的應(yīng)用范圍，能夠滿足不同角度的拋光需求。

可調(diào)的磨削轉(zhuǎn)速和良好性能的運行電機，使得設(shè)備在低速或高速運行下都能提供穩(wěn)定的設(shè)定轉(zhuǎn)速，保持實驗樣品處理的均一性及可重復(fù)性。

EG-45拋光機憑借其精密機械設(shè)計和智能功能集成，已成為眾多實驗室的工具。它不僅提高了顯微工具制備的效率和一致性，更拓展了科研工作者探索微觀世界的能力邊界。

隨著科技進步，對精密儀器的需求只增不減，像EG-45這樣的設(shè)備將繼續(xù)推動科學(xué)研究向前發(fā)展。